В России тестируют 150-нм литограф
АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил разработку установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Главный плюс этой технологии – не нужно применять маски, ЭЛ-литограф создает изображение при помощью сфокусированного пучка электронов, что в теории должно снизить себестоимость конечных чипов. Гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил:
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры».
Использование ЭЛ-литографа оправдано для мелкосерийного производства, где создавать маски обычно невыгодно. При этом 150 нм – это уровень начала нулевых и Pentium 3, для микроконтроллеров такой производительности хватит с запасом.
Присоединяйтесь к нам:
🔻 Группа VK: vk.com/box_movie_new (Тематика: 👉 Фильмы)
🔻 Группа VK: vk.com/club235598284 (Тематика: 👉 Космос)
🔻 ВСЕ КИНО-НОВИНКИ СМОТРЕТЬ ОНЛАЙН: vk.cc/cPcUPc