Просмотр новости
Найдите то, что Вас интересует
Спутники
РН
SpaceX
Роскосмос
NASA
В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов
Дата публикации: 20-07-2026 14:32:00
В России создана установка электронно-лучевой литографии для
изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования
маски. Оборудование с проектными нормами 150 нм разработал Зеленоградский
нанотехнологический центр, сейчас опытные образцы проходят испытания.
Основное содержимое страницы с новостью.
20 Июля 2026 17:32 20 Июл 2026 17:32 |
В России создана установка электронно-лучевой литографии для изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования маски. Оборудование с проектными нормами 150 нм разработал Зеленоградский нанотехнологический центр, сейчас опытные образцы проходят испытания.
Установки литографииКак выяснил CNews, АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. О том, что опытные образцы установки созданы, стало известно из тендера на их транспортировку. Он был опубликован в июне 2026 г.
Оборудование предназначено для безмасковой литографии — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски.
Как следует из документации, ЗНТЦ ищет перевозчика для доставки «опытного образца установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм» в рамках ОКР шифр «Прогресс ЭЛЛ 150». Место отправления — Зеленоград, пункт назначения не раскрывается.
Однако как рассказал CNews генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев, установка будет направлена за 2 тыс. км от Зеленограда.
ЗНТЦ создал установку для производства ИС по топологии 150 нм
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев, — рассказал CNews Ковалев. — После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры».
Что за оборудованиеРечь идет о разработке установки электронно-лучевой литографии и базовых технологических процессов формирования на фотошаблоне топологических элементов интегральных схем с проектными нормами 150 нм.
Ключевая особенность установки — безмасковая литография. В отличие от фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон, электронно-лучевая литография формирует изображение непосредственно на подложке с помощью сфокусированного пучка электронов. Это позволяет изготавливать фотошаблоны и создавать рисунок на кремниевых и других подложках без использования маски, что критически важно для производства опытных партий, прототипов и специализированных микросхем.
Разработка ведется в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Преимущества и минусыВ безмасочном режиме (при прямой записи) электронный луч, как сверхтонкое перо, наносит рисунок микросхемы непосредственно на пластине покрытой, фоторезистом, — рассказал CNews глава одного из микроэлеткронных предприятий. — Гибко, быстро для научных разработок и прототипирования, можно быстро менять рисунок без необходимости создавать дорогой фотошаблон. Но для серийного производства очень медленно».
По его словам, использование такого оборудования логично при мелкосерийном производстве специализированных ЭКБ ( для космической или оборонной промышленности), где изготавливать дорогостоящие маски для каждого заказа экономически невыгодно.
Цифровые активы «Росатома». Инфографика CNews Бизнес
Фотошаблоны являются конечным продуктом процесса ЭЛЛ. Установка ЭЛЛ рисует эталонный рисунок будущей микросхемы на заготовке маски. Этот фотошаблон (стеклянная пластина с рисунком из непрозрачной пленки) затем используется в фотолитографе как «трафарет» для быстрого переноса изображения на тысячи кремниевых пластин, продолжил он.По мнению эксперта, среди ключевых проблем — отсутствие собственной инженерной школы для производства ниже 65 нм, фоторезистов для технологий ниже 90 нм, компонентной базы и критически важных решений, таких как сверхточные лазерные интерферометры и системы управления нагревом для предотвращения "эффекта близости", а также отсутствие государственной стратегии по реинжинирингу оборудования мировых лидеров силами научных институтов, как это делает Китай с 2005–2010 годов, что позволило бы сократить отставание, обеспечить выпуск доверенной электроники для КИИ и расширить объем собственных разработок в стране.
«Собственный электронно-лучевой литограф весьма актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объемами заказов на микросхемы, - рассказал CNews независимый эксперт и автор Telegram-канала RUSmicro Алексей Бойко. - То есть такие установки неплохо подходят для малосерийного производства, поскольку позволяют сразу "рисовать" микросхемы, не тратясь на недешевую маску. Удобны эти установки и для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований».
«Такой литограф, кроме того, можно использовать для изготовления масок для зрелых процессов фотолитографии. Если говорить о сложностях, то стоит упомянуть о проблемах обеспечения равномерности рисунка по всей площади пластины - это требует тщательной метрологии, качества управления пучком, - отметил Бойко. - Нужны электронно-чувствительные резисты, которые тоже предъявляют немалые требования к качеству».
Чем известен ЗНТЦАО «Зеленоградский нанотехнологический центр» — российский разработчик и производитель микроэлектроники и оборудования для ее производства.
Как ранее сообщал CNews, ЗНТЦ также создал фотолитограф с разрешением 350 нм, который был передан «Отраслевым решениям» (входит в ГК «Элемент»). На форуме «Микроэлектроника 2025» в сентябре 2025 г. генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев заявлял, что создан серьёзный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм. Сейчас же ведутся работы по установке на 130 нм.
Схожие новости
Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 7. Источник: cnews.ru.