Просмотр новости
Найдите то, что Вас интересует
Спутники
РН
SpaceX
Роскосмос
NASA
В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов
Дата публикации: 20-07-2026 14:32:00
В России создана установка электронно-лучевой литографии для
изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования
маски. Оборудование с проектными нормами 150 нм разработал Зеленоградский
нанотехнологический центр, сейчас опытные образцы проходят испытания.
Основное содержимое страницы с новостью.
20 Июля 2026 17:32 20 Июл 2026 17:32 |
В России создана установка электронно-лучевой литографии для изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования маски. Оборудование с проектными нормами 150 нм разработал Зеленоградский нанотехнологический центр, сейчас опытные образцы проходят испытания.
Установки литографииКак выяснил CNews, АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. О том, что опытные образцы установки созданы, стало известно из тендера на их транспортировку. Он был опубликован в июне 2026 г.
Оборудование предназначено для безмасковой литографии — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски.
Как следует из документации, ЗНТЦ ищет перевозчика для доставки «опытного образца установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм» в рамках ОКР шифр «Прогресс ЭЛЛ 150». Место отправления — Зеленоград, пункт назначения не раскрывается.
Однако как рассказал CNews генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев, установка будет направлена за 2 тыс. км от Зеленограда.
ЗНТЦ создал установку для производства ИС по топологии 150 нм
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев, — рассказал CNews Ковалев. — После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры».
Что за оборудованиеРечь идет о разработке установки электронно-лучевой литографии и базовых технологических процессов формирования на фотошаблоне топологических элементов интегральных схем с проектными нормами 150 нм.
Ключевая особенность установки — безмасковая литография. В отличие от фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон, электронно-лучевая литография формирует изображение непосредственно на подложке с помощью сфокусированного пучка электронов. Это позволяет изготавливать фотошаблоны и создавать рисунок на кремниевых и других подложках без использования маски, что критически важно для производства опытных партий, прототипов и специализированных микросхем.
Разработка ведется в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Преимущества и минусыВ безмасочном режиме (при прямой записи) электронный луч, как сверхтонкое перо, наносит рисунок микросхемы непосредственно на пластине покрытой, фоторезистом, — рассказал CNews глава одного из микроэлеткронных предприятий. — Гибко, быстро для научных разработок и прототипирования, можно быстро менять рисунок без необходимости создавать дорогой фотошаблон. Но для серийного производства очень медленно».
По его словам, использование такого оборудования логично при мелкосерийном производстве специализированных ЭКБ ( для космической или оборонной промышленности), где изготавливать дорогостоящие маски для каждого заказа экономически невыгодно.
Все номера журналов CNews стали доступны в библиотеке им. Ленина
Фотошаблоны являются конечным продуктом процесса ЭЛЛ. Установка ЭЛЛ рисует эталонный рисунок будущей микросхемы на заготовке маски. Этот фотошаблон (стеклянная пластина с рисунком из непрозрачной пленки) затем используется в фотолитографе как «трафарет» для быстрого переноса изображения на тысячи кремниевых пластин, продолжил он.По мнению эксперта, среди ключевых проблем — отсутствие собственной инженерной школы для производства ниже 65 нм, фоторезистов для технологий ниже 90 нм, компонентной базы и критически важных решений, таких как сверхточные лазерные интерферометры и системы управления нагревом для предотвращения "эффекта близости", а также отсутствие государственной стратегии по реинжинирингу оборудования мировых лидеров силами научных институтов, как это делает Китай с 2005–2010 годов, что позволило бы сократить отставание, обеспечить выпуск доверенной электроники для КИИ и расширить объем собственных разработок в стране.
«Собственный электронно-лучевой литограф весьма актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объемами заказов на микросхемы, - рассказал CNews независимый эксперт и автор Telegram-канала RUSmicro Алексей Бойко. - То есть такие установки неплохо подходят для малосерийного производства, поскольку позволяют сразу "рисовать" микросхемы, не тратясь на недешевую маску. Удобны эти установки и для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований».
«Такой литограф, кроме того, можно использовать для изготовления масок для зрелых процессов фотолитографии. Если говорить о сложностях, то стоит упомянуть о проблемах обеспечения равномерности рисунка по всей площади пластины - это требует тщательной метрологии, качества управления пучком, - отметил Бойко. - Нужны электронно-чувствительные резисты, которые тоже предъявляют немалые требования к качеству».
Чем известен ЗНТЦАО «Зеленоградский нанотехнологический центр» — российский разработчик и производитель микроэлектроники и оборудования для ее производства.
Как ранее сообщал CNews, ЗНТЦ также создал фотолитограф с разрешением 350 нм, который был передан «Отраслевым решениям» (входит в ГК «Элемент»). На форуме «Микроэлектроника 2025» в сентябре 2025 г. генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев заявлял, что создан серьёзный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм. Сейчас же ведутся работы по установке на 130 нм.
Схожие новости
Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 7. Источник: cnews.ru.