В России создана первая отечественная установка электронно-лучевой литографии, работающая по проектным нормам 150 нанометров. Разработку вел Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Как сообщает CNews, два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырех месяцев. По словам гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, после этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры.

Главная особенность новой установки — безмасковая литография. В отличие от традиционной фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон (дорогостоящую стеклянную пластину с непрозрачным узором), электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) формирует изображение непосредственно на подложке с помощью сфокусированного пучка электронов. Это позволяет как изготавливать сами фотошаблоны, так и создавать рисунок на кремниевых и других пластинах без использования маски.

Как пояснил гендиректор одного из микроэлектронных предприятий, в безмасочном режиме электронный луч работает как сверхтонкое перо, нанося рисунок микросхемы прямо на пластину. Это даёт гибкость и быстроту для научных разработок и прототипирования — можно менять рисунок без необходимости создавать дорогостоящий фотошаблон.

Однако для серийного производства такой метод слишком медленный. Поэтому использование ЭЛЛ логично при мелкосерийном выпуске специализированных чипов для космической или оборонной промышленности, где изготавливать дорогие маски для каждого заказа экономически невыгодно. Кроме того, установка может применяться для изготовления масок для зрелых процессов фотолитографии.

Разработка ведётся в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации». О том, что опытные образцы созданы, стало известно из тендера на их транспортировку, опубликованного в июне 2026 года. ЗНТЦ искал перевозчика для доставки «опытного образца установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм» в рамках опытно-конструкторской работы шифр «Прогресс ЭЛЛ 150». Место отправления — Зеленоград, пункт назначения не раскрывается, но, по словам Ковалева, установку направят за 2 тысячи километров от Зеленограда.

ЗНТЦ уже разработал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм. В процессе разработки также находится оборудование с нормами 130 нм. Создание установки ЭЛЛ на 150 нм — важный шаг для российской микроэлектроники, особенно с учётом типичных для рынка малых объёмов заказов на микросхемы. Однако эксперты отмечают и ряд проблем: отсутствие национальной инженерной школы для освоения технологий тоньше 65 нм, дефицит фоторезистов для процессов тоньше 90 нм, недостаток компонентной базы, включая прецизионные лазерные интерферометры и системы контроля температуры.

Ранее мы сообщали, что Новосибирская область вошла в число регионов-лидеров по количеству лучших студенческих стартапов.