Вход на сайт

Просмотр новости

Найдите то, что Вас интересует

ЗНТЦ создал опытный образец 130-нм отечественного литографа Зеленоградский нанотехнологический центр ...

Дата публикации: 06-10-2026 12:25:12

ЗНТЦ создал опытный образец 130-нм отечественного литографа
Зеленоградский нанотехнологический центр вместе с белорусской компанией «Планар» завершили третий этап опытно-конструкторских работ по созданию 130-нм фотолитографической установки. Использовались 193-нм эксимерные лазеры, созданные компанией «Лассард», а полная стоимость установки составила смешные для чипмейкерства $70 млн. Она работает с 200-мм кремниевыми пластинами и подходит для производства сверхбольших интегральных схем (СБИС).
Техпроцесс в 130 нм – это уровень 2001-2002 годов, эпоха Pentium III Tualatin и Athlon XP. Однако на нем можно создавать чипы для IoT, автомобильную электронику, радиочастотные микросхемы и промышленные датчики.
Присоединяйтесь к нам:
🔻 Группа VK: vk.ru/box_movie_new (Тематика: 👉 Фильмы)
🔻 Группа VK: vk.com/club235598284 (Тематика: 👉 Космос)
ВЫГОДНО:
🔥 КУПИТЬ / ПРОДАТЬ ключи TF2: https://vk.cc/d29I8W
🔥 КУПИТЬ АККАУНТЫ CS2 С ПРАЙМОМ: https://vk.cc/d29I8W

Схожие новости

#Наименование новостиТональностьИнформативностьДата публикации
1В России практически завершена разработка 130-нм литографической установки011.4428-09-2026
2В России практически завершена разработка 130-нм литографической установки09.9328-09-2026
3РФ и Белоруссия изготовили опытный образец литографа на 130 нм02028-09-2026
4Алиханов рассказал о разработке российского литографа на 130 нанометров011.7628-09-2026
5В РФ до конца года планируют завершить более 100 разработок для микроэлектроники013.6828-09-2026
6Разработана технология объемной 3D-печати голограммами с фазовым управлением луча011.0225-05-2026
7В России разработали способ ускорения нейросетей при помощи микролазеров011.5801-10-2026
8В России построят три новых микроэлектронных фабрики. Одну — для выпуска чипов 14 нм09.9304-10-2026
93D-печать на новом уровне: учёные заставили лазер «взбивать» расплав для идеальных высокэнтропийных сплавов01006-07-2026

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 9. Тональность: 0. Информативность: 9.16. Источник: vk.com.