В России практически завершена разработка 130-нм литографической установки

Дата публикации: 28-09-2026 17:30:48

Изображение сгенерировано нейросетью
Не так давно в России наладили выпуск 350-нм литографов, а теперь отечественные специалисты при поддержке белорусских коллег изготовили опытный образец литографической установки, которая позволяет выпускать полупроводниковую продукцию по технологическим нормам 130 нм. Об этом рассказал первый вице‑премьер РФ Денис Мантуров в ходе проведения форума «Микроэлектроника 2026». Читать дальше →

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	Алиханов рассказал о разработке российского литографа на 130 нанометров	0	11.76	28-09-2026
2	РФ и Белоруссия изготовили опытный образец литографа на 130 нм	0	20	28-09-2026
3	В РФ до конца года планируют завершить более 100 разработок для микроэлектроники	0	13.68	28-09-2026
4	Россия намерена выпускать чипы для военной промышленности на своей территории к 2036 году	0	9.35	28-09-2026
5	Россия намерена выпускать чипы для военной промышленности на своей территории к 2036 году	0	9.35	28-09-2026
6	«Микроэлектроника 2026» в Сириусе — диалог тех, кто создаёт и ...	0	9.75	28-09-2026
7	ГЛАВНЫЕ НОВОСТИ ✔ Василий Шпак, Минпромторг: российский литограф на 130 ...	-1	12.38	28-09-2026
8	В России начали разрабатывать биокомпьютеры на основе ДНК и нейронов	0	6.89	27-09-2026
9	В России научились управлять формой пористых микрокристаллов	0	11.48	26-09-2026
10	"МТ-Интеграция" внедрила систему 3D-контроля складских запасов удобрений в "ЕвроХиме"	0	10.95	27-09-2026

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 11.44. Источник: www.techcult.ru.