Технология литографии в экстремальном ультрафиолете с высокой числовой апертурой (High NA EUV) долгое время оставалась инструментом для лабораторных разработок. Теперь она вышла на коммерческий рынок. Первой компанией, начавшей поставки продукции с ее использованием, стала Intel.

Источник изображения: Intel

ASML официально подтвердила, что Intel Foundry применяет High NA EUV на своем техпроцессе Intel 18A в Орегоне. Речь идет не о полном переходе на новое оборудование, а о сертификации отдельных слоев. Эти слои имеют двойную квалификацию: их можно экспонировать как на старых сканерах NXE с апертурой 0,33, так и на новых EXE с апертурой 0,55. Полученные пластины при этом взаимозаменяемы. Выход годных изделий на новом оборудовании сопоставим с показателями существующей платформы ASML.

High NA EUV использует то же 13,5-нанометровое излучение, что и современные сканеры, но увеличивает числовую апертуру с 0,33 до 0,55. Это позволяет печатать более мелкие элементы за одну экспозицию и снижает зависимость от сложных многослойных методов нанесения рисунка.

Intel и ASML готовились к этому этапу несколько лет. В 2024 году Intel установила первый коммерческий сканер TWINSCAN EXE:5000 в своем центре в Хиллсборо. Позже компания сертифицировала второе поколение – EXE:5200B с повышенной производительностью. Panther Lake, который Intel представила еще в январе 2026 года, стал первым продуктом, где применили новую технологию. В перспективе Intel планирует использовать High NA EUV на техпроцессе 14A.