Китай приступил к производству собственных иммерсионных литографических установок глубокого ультрафиолетового диапазона (DUV), которые являются одним из ключевых видов оборудования для выпуска полупроводников. Как сообщает The Information со ссылкой на собственные источники, первые машины уже производятся и до конца года должны быть поставлены крупнейшим китайским производителям микросхем, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT).Источник изображения: Reuters
URL изображенияНазвание государственной компании-разработчика не раскрывается из-за чувствительности проекта. Ситуация даже отразилась на акциях ASML, которая десятилетиями доминировала в сегменте DUV-литографии, но потеряла более 7% из-за конкурента на рынке.

По данным издания, китайские установки пока уступают оборудованию ASML по производительности и надёжности и требуют дальнейших испытаний перед масштабным вводом в эксплуатацию. В 2026 году планируется выпустить около пяти таких машин, а в 2027-м – примерно 20.

Несмотря на это, запуск собственного производства считается важным этапом в снижении зависимости Китая от зарубежных технологий после того, как экспортные ограничения лишили местных производителей доступа к самым современным EUV-литографам. Иммерсионные DUV-системы остаются наиболее передовым оборудованием, доступным китайским заводом, и позволяют выпускать широкий спектр современных микросхем, включая относительно сложные чипы с использованием технологии многократной экспозиции.

Наиболее передовое оборудование (EUV-литографы) по-прежнему выпускает ASML. В Китае лишь пытаются создать прототип этой машины.