Запатентован способ глубокой очистки нанопорошка для микроэлектроники

Дата публикации: 16-10-2026 08:31:45

В ННГУ сообщили, что разработка позволяет определять возможность использования частиц в производстве микросхем

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	В Нижнем Новгороде запатентовали очистку нанопорошка для микроэлектроники	0	6.78	17-10-2026
2	Технология способа очистки нанодисперсного диоксида кремния запатентована учёными ННГУ	0	15.26	16-10-2026
3	Российские ученые запатентовали способ очистки диоксида кремния - ключ к производству современных чипов	0	10.08	16-10-2026
4	Российские ученые запатентовали способ очистки диоксида кремния - ключ к производству современных чипов	0	10.08	16-10-2026
5	Российские ученые запатентовали способ очистки диоксида кремния - ключ к производству современных чипов	0	10.08	16-10-2026
6	Российские ученые запатентовали способ очистки диоксида кремния - ключ к производству современных чипов	0	10.08	16-10-2026
7	В России создали новую технологию изготовления порошков для микросхем	0	0	27-06-2025
8	Создан новый способ получения нанокристаллов для очистки нефти	0	0	27-05-2025
9	Ученые создали наночастицы для распознавания «зеркальных» молекул и создания светодиодов	0	10	25-08-2026
10	Созданы наночастицы, улучшающие контроль качества сырья при производстве лекарств	0	10	25-08-2026

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 8.1. Источник: tass.ru.